Независимо от того, нужен ли вам кристаллический бор 6N для легирования полупроводников, специально разработанные аморфные порошки бора для современных композитных материалов или h-BN для управления тепловыми процессами — наша команда технической поддержк
¹¹B — второй стабильный изотоп бора с естественной распространенностью приблизительно 80,22%. Он практически не имеет сечения поглощения тепловых нейтронов, что делает его незаменимым основным материалом для процессов ионной имплантации в полупроводники. Наши высокочистые марки с регулируемым обогащением широко используются в производстве микросхем, дисплейных панелей и других сегментах полупроводниковой промышленности.
Интересуетесь нашими материалами на основе бора? Пожалуйста, оставьте сообщение с вашими требованиями — наша команда технической поддержки ответит вам в течение 24 часов.
Оставить сообщение
Интересуетесь нашими материалами на основе бора? Пожалуйста, оставьте сообщение с вашими требованиями — наша команда технической поддержки ответит вам в течение 24 часов.